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    1. 超凈高純試劑系列
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      酸堿類
      品名 英文名 分子式 級別
      SL UL VL(CMOS) EL
      過氧化氫 Hydrogen Peroxide,30% H2O2
      硫酸 Sulfuric Acid H2SO4
      鹽酸 Hydrochloric Acid HCL
      硝酸 Nitric Acid,70% HNO3
      發煙硝酸 Nitric Acid Fuming HNO3
      磷酸 Phosphoric Acid H3PO4
      氫氟酸 Hydrofluoric Acid HF
      冰乙酸 Acetic Acid,Glacial CH3COOH
      氨水 Ammonium Hydroxide NH3·H2O
      氟化銨 Ammonium Fluoride,40% NH4F
      氫氧化鉀溶液 Potassium Hydroxide Liquid KOH
      C-400膽堿清洗劑 Choline Hydroxide C5H15NO2
      氫氧化鈉溶液 Sodium Hydroxide Liquid NaOH
      蝕刻液
      品名 英文名 分子式 級別
      SL UL VL(CMOS) EL
      氟化銨腐蝕液(BOE) Ammonium Fluoride Etchant NH4F·HF
      氟化銨腐蝕液(BOES) Ammonium Fluoride Etchant(with Surfactant) NH4F·HF
      鋁蝕刻液 Aluminum Etchant H3PO4·HNO3·CH3COOH
      鉬蝕刻液 Mo Etchant H3PO4·HNO3·CH3COOH
      鉬鋁/鉬鋁鉬蝕刻液 MoAl/MoAlMo Etchant H3PO4·HNO3·CH3COOH
      硅蝕刻液(MAE) Silicon Etchant HNO3·HF·CH3COOH
      金蝕刻液 Au Etchant KI
      銀蝕刻液 Ag Etchant H3PO4·HNO3  

      鈦蝕刻液

      Ti Etchant HF
      鉻蝕刻液 Cr Etchant HNO3CAN    
      酸性剝離液(AP-2X) Nanostrip 2XP H2SO5  
      氫氟酸腐蝕液DHF Hydrofluoric Acid(with Surfactant) HF
      ITO蝕刻液(王水) ITO Etchant HNO3·HCI    
      ITO蝕刻液(草酸) ITO Etchant H2C2O4    
      ITO蝕刻液(FeCl3) ITO Etchant FeCl3·HCl
      溶劑
      品名 英文名 分子式 級別
      SL UL VL(CMOS) EL
      甲醇 Methanol CH3OH
      乙醇 Ethanol C2H5OH
      異丙醇 IPA CH3CHOHCH3
      丙酮 Acetone (CH3)2CO
      醋酸丁酯 n-Butyl Acetate C6H12O2
      甲苯 Toluene C6H5CH3
      二甲苯 Xylenes C8H10
      三氯乙烯 Trichloroethylene C2HCl3
      環已烷 Cyclohexane C6H12
      N-甲基吡咯烷酮 N-methyl-2-pyrrolidinone CH3N(CH2)3CO
      丙二醇單甲醚 PGME PGME
      丙二醇單甲醚醋酸酯 PGMEA PGMEA
      EL級:優于美國SEME C1標準,控制1μm顆粒,控制十多個金屬元素,單項金屬元素控制在100PPb。
      VL級:介于EL與UL之間,控制0.5μm顆粒,控制三十多個金屬元素,單項金屬元素控制在10~100PPb。
      UL級:等同于美國SEME C7標準,控制0.5、0.3μm顆粒,控制三十多個金屬元素,單項金屬元素控制在10PPb以下。
      SL級:等同于美國SEME C8標準,控制0.3μm顆粒,控制三十多個金屬元素,單項金屬元素控制在1PPb以下。
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