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        酸堿類
        品名 英文名 分子式 級別
        SL UL VL(CMOS) EL
        過氧化氫 Hydrogen Peroxide,30% H2O2
        硫酸 Sulfuric Acid H2SO4
        鹽酸 Hydrochloric Acid HCL
        硝酸 Nitric Acid,70% HNO3
        發煙硝酸 Nitric Acid Fuming HNO3
        磷酸 Phosphoric Acid H3PO4
        氫氟酸 Hydrofluoric Acid HF
        冰乙酸 Acetic Acid,Glacial CH3COOH
        氨水 Ammonium Hydroxide NH3·H2O
        氟化銨 Ammonium Fluoride,40% NH4F
        氫氧化鉀溶液 Potassium Hydroxide Liquid KOH
        C-400膽堿清洗劑 Choline Hydroxide C5H15NO2
        氫氧化鈉溶液 Sodium Hydroxide Liquid NaOH
        蝕刻液
        品名 英文名 分子式 級別
        SL UL VL(CMOS) EL
        氟化銨腐蝕液(BOE) Ammonium Fluoride Etchant NH4F·HF
        氟化銨腐蝕液(BOES) Ammonium Fluoride Etchant(with Surfactant) NH4F·HF
        鋁蝕刻液 Aluminum Etchant H3PO4·HNO3·CH3COOH
        鉬蝕刻液 Mo Etchant H3PO4·HNO3·CH3COOH
        鉬鋁/鉬鋁鉬蝕刻液 MoAl/MoAlMo Etchant H3PO4·HNO3·CH3COOH
        硅蝕刻液(MAE) Silicon Etchant HNO3·HF·CH3COOH
        金蝕刻液 Au Etchant KI
        銀蝕刻液 Ag Etchant H3PO4·HNO3  

        鈦蝕刻液

        Ti Etchant HF
        鉻蝕刻液 Cr Etchant HNO3CAN    
        酸性剝離液(AP-2X) Nanostrip 2XP H2SO5  
        氫氟酸腐蝕液DHF Hydrofluoric Acid(with Surfactant) HF
        ITO蝕刻液(王水) ITO Etchant HNO3·HCI    
        ITO蝕刻液(草酸) ITO Etchant H2C2O4    
        ITO蝕刻液(FeCl3) ITO Etchant FeCl3·HCl
        溶劑
        品名 英文名 分子式 級別
        SL UL VL(CMOS) EL
        甲醇 Methanol CH3OH
        乙醇 Ethanol C2H5OH
        異丙醇 IPA CH3CHOHCH3
        丙酮 Acetone (CH3)2CO
        醋酸丁酯 n-Butyl Acetate C6H12O2
        甲苯 Toluene C6H5CH3
        二甲苯 Xylenes C8H10
        三氯乙烯 Trichloroethylene C2HCl3
        環已烷 Cyclohexane C6H12
        N-甲基吡咯烷酮 N-methyl-2-pyrrolidinone CH3N(CH2)3CO
        丙二醇單甲醚 PGME PGME
        丙二醇單甲醚醋酸酯 PGMEA PGMEA
        EL級:優于美國SEME C1標準,控制1μm顆粒,控制十多個金屬元素,單項金屬元素控制在100PPb。
        VL級:介于EL與UL之間,控制0.5μm顆粒,控制三十多個金屬元素,單項金屬元素控制在10~100PPb。
        UL級:等同于美國SEME C7標準,控制0.5、0.3μm顆粒,控制三十多個金屬元素,單項金屬元素控制在10PPb以下。
        SL級:等同于美國SEME C8標準,控制0.3μm顆粒,控制三十多個金屬元素,單項金屬元素控制在1PPb以下。
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