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      1. 超凈高純試劑系列
        光刻膠配套試劑系列
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        超凈高純試劑系列
        品名 英文名 分子式 級別
        SL UL VL EL
        過氧化氫 Hydrogen Peroxide,30% H2O2
        硫酸 Sulfuric Acid H2SO4
        鹽酸 Hydrochloric Acid HCL
        硝酸 Nitric Acid,70% HNO3
        光刻膠配套試劑系列
        品名 英文名 型號
        負膠顯影液 Negative Photoresist Developer FX-C型
        負膠顯影液 Negative Photoresist Developer FX-D型 FX-2D型
        負膠漂洗液 Negative Photoresist Rinse FP-01型
        負膠顯影漂洗液 Negative Photoresist Developer and Rinse MD-B型、MD-C型
         
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