<noscript id="uezgo"><sup id="uezgo"></sup></noscript>

    1. 超凈高純試劑系列
      光刻膠配套試劑系列
      江化概況
      生產設備
      檢測設備
      品質保證
      聯系我們
      您現在的位置:首 頁  - 產品展示
      超凈高純試劑系列
      品名 英文名 分子式 級別
      SL UL VL EL
      過氧化氫 Hydrogen Peroxide,30% H2O2
      硫酸 Sulfuric Acid H2SO4
      鹽酸 Hydrochloric Acid HCL
      硝酸 Nitric Acid,70% HNO3
      光刻膠配套試劑系列
      品名 英文名 型號
      負膠顯影液 Negative Photoresist Developer FX-C型
      負膠顯影液 Negative Photoresist Developer FX-D型 FX-2D型
      負膠漂洗液 Negative Photoresist Rinse FP-01型
      負膠顯影漂洗液 Negative Photoresist Developer and Rinse MD-B型、MD-C型
       
      版權所有 © 2014  江陰江化微電子材料股份有限公司 All Rights Reserved.   MANAGEMENT
      地址:江蘇省江陰市周莊鎮長壽云顧路581號    電話:0510-86239858(總)    傳真:0510-86900022    郵 編:214423
      蘇ICP備15056893號-1

      蘇公網安備 32028102000588號

      神马影院线